在半导体加工过程中需要使用水进行处理，该水质的要求非常高，不能含有任何离子杂质。半导体行业用超纯水设备采用先进的制水技术，有效去除水中杂质，保证设备的出水水质。半导体超纯水设备用水水质标准半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备,需要符合特定的用水水质标准,下面详细介绍半导体行业超纯水水质的标准要求和超纯水设备制备工艺及应用：

半导体超纯水设备水质标准要求:

半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。

半导体超纯水设备制备工艺:

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(新工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(新工艺)

4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(新工艺)

5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

半导体超纯水设备的应用领域:

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。

集成电路生产中高纯水清洗硅片。

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。高品质显像管、萤光粉生产。

汽车、家电表面抛光处理。